Round Lab - PINE CALMING CICA AMPOULE - 30ml

Táto ampulka poskytuje pokožke hĺbkovú hydratáciu a upokojujúce účinky. Zloženie obohatené o extrakt z listov borovice a päť druhov zložiek pochádzajúcich z centella asiatica posilňuje ochrannú bariéru pokožky a zároveň upokojuje začervenanie a podráždenie. Obsahuje tiež tri druhy kyseliny hyalurónovej a výťažok z koreňa japonica, ktoré vyživujú a hydratujú pokožku.

Môžeme doručiť do:
25.11.2024
Možnosti doručenia
€20,89 –18 % €17
SKLADOM

BENEFITY: 

  • sérum na upokojenie pokožky, ktoré poskytuje pokožke intenzívne upokojenie a hydratáciu
  • obsahuje borovicu a päť zložiek pochádzajúcich z centella asiatica, ktoré rýchlo a účinne ochladzujú a upokojujú podráždenú a problematickú pokožku
  • obohatené o 3 typy kyseliny hyalurónovej s rôznymi molekulovými veľkosťami, aby pleť hydratovala 
  • vodné osviežujúce zloženie dokončilo test podráždenia pokožky
  • vhodné pre citlivú pokožku

Ako použiť: Naneste mierne množstvo na tvár a jemne vklepte pre lepšiu absorpciu.

Hlavné zložky: 

Pinus Densiflora Leaf Extract, Butylene Glycol, Dipropylene Glycol, Glycereth-26, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Centella Asiatica Extract, Propanediol, Hyaluronic Acid, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate, Ethylhexylglycerin, Water, Glycoproteins, Melia Azadirachta Leaf Extract, Coptis Japonica Root Extract, Melia Azadirachta Flower Extract, Hydroxyacetophenone, Asiaticoside, Asiatic Acid, Madecassoside, Madecassic Acid, Sodium Citrate, Capryloyl Salicylic Acid, Disodium EDTA, Xanthan Gum, Carbomer, Tromethamine, Citric Acid

Zložky podliehajú zmenám podľa uváženia výrobcu. Najúplnejší a najaktuálnejší zoznam zložiek nájdete na obale produktu.

O značke: ROUND LAB

ROUND LAB používa čerstvé a výživné zložky pochádzajúce z prírody na upokojenie a revitalizáciu unavenej pokožky. Kórejská značka starostlivosti o pleť je známa svojou líniou Dokdo, ktorá zahŕňa čistiace prostriedky, tonery, pleťové vody, krémy, masky a balíčky na spanie.

Meno značky: Round Lab
Kategória: STAROSTLIVOSŤ O PLEŤ

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole:

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole: